「磁場-パルスプラズマ援用CVDを用いた環境セル型透過電子顕微鏡用アモルファスSiCN隔膜の作製とその評価」
「磁場-パルスプラズマ援用CVDを用いた環境セル型透過電子顕微鏡用アモルファスSiCN隔膜の作製とその評価」
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“使用磁场脉冲等离子体辅助 CVD 制备和评估用于环境细胞透射电子显微镜的非晶 SiCN 隔膜”
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山﨑佳代,松谷貴臣,中野人志,崔子鵬,川﨑忠寛
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Yamasaki;T. Matsutani;H. Nakano;Z. Cui;T. Kawasaki;山﨑佳代,松谷貴臣,中野人志,崔子鵬,川﨑忠寛
