Recativity of solid silicon with hydrogen under conditions of a low pressure plasma

Recativity of solid silicon with hydrogen under conditions of a low pressure plasma
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低压等离子体条件下固体硅与氢的反应性

DOI:
10.1016/0009-2614(79)80436-4
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发表时间:
1979
影响因子:
2.8
通讯作者:
S. Vepřek
S. Vepřek
中科院分区:
化学4区
文献类型:
--
作者:
A. Webb;S. Vepřek

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