藤本敏行: "TEOS/O_3-APCVD薄膜製造プロセスにおける蒸気とクラスター/微粒子の同時沈着の評価と制御"化学工学シンポジウムシリーズ. 67. 31-39 (1999)
藤本敏行: "TEOS/O_3-APCVD薄膜製造プロセスにおける蒸気とクラスター/微粒子の同時沈着の評価と制御"化学工学シンポジウムシリーズ. 67. 31-39 (1999)
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Toshiyuki Fujimoto：“TEOS/O_3-APCVD 薄膜制造过程中蒸气和团簇/颗粒共沉积的评估和控制”化学工程研讨会系列 67. 31-39 (1999)。
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