HfO2/SiO2多層膜をDBRとしたCuClマイクロキャビティの作製II
HfO2/SiO2多層膜をDBRとしたCuClマイクロキャビティの作製II
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使用HfO2/SiO2多层膜作为DBR II制备CuCl微腔
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中山正昭
中科院分区：
文献类型：
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作者：
宮崎健一;大畠悟郎;川瀬稔貴;金大貴;中山正昭
