ダイヤモンド上SiO2ゲート絶縁膜の形成と評価
ダイヤモンド上SiO2ゲート絶縁膜の形成と評価
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金刚石上SiO2栅绝缘膜的形成及评价
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
川原田 洋
中科院分区：
文献类型：
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作者：
原 壮志;袴田 知宏;小野 和子;瀬下 裕志;林 佑哉;平岩 篤;川原田 洋
