Optimizing hydrogen plasma etching process of preferred (110)-textured diamond film for MESFET application

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优化用于 MESFET 应用的优选 (110) 纹理金刚石薄膜的氢等离子体蚀刻工艺

DOI：
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发表时间：
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期刊：
Surface and Coatings Technology, Available online 2 June 2012
影响因子：
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通讯作者：
Yiben Xia
Yiben Xia
中科院分区：
其他
文献类型：
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作者：
Linjun Wang;Lingyun Shi;Jian Huang;Yiben Xia

文献摘要

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