細孔壁ラフネスを考慮したAtomisticなシリカ細孔モデルにおける吸着挙動の検討
細孔壁ラフネスを考慮したAtomisticなシリカ細孔モデルにおける吸着挙動の検討
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考虑孔壁粗糙度的原子二氧化硅孔隙模型吸附行为研究
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮原稔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田中秀樹;西山奈津美;宮原稔
