High-resolution photoemission studies at rough Cu(111) surfaces: The influence of defect scattering and disorder-dependent dephasing processes
High-resolution photoemission studies at rough Cu(111) surfaces: The influence of defect scattering and disorder-dependent dephasing processes
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粗糙 Cu(111) 表面的高分辨率光电研究：缺陷散射和无序相关的移相过程的影响
DOI：
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发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Goldmann
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Theilmann;R. Matzdorf;A. Goldmann
