プラズマCVD法による炭素薄膜作製とエネルギーデバイスへの展開
プラズマCVD法による炭素薄膜作製とエネルギーデバイスへの展開
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等离子体CVD法制备碳薄膜及其在能源器件中的应用
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
福塚友和,松尾吉晃,杉江他曾宏,安部武志,小久見善八
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Fukutsuka;Y. Matsuo;Y. Sugie;T. Abe;and Z. Ogumi;福塚友和,松尾吉晃,杉江他曾宏,安部武志,小久見善八
