RFスパッタ法により作製したBaSi2薄膜表面の粒界ポテンシャル評価
RFスパッタ法により作製したBaSi2薄膜表面の粒界ポテンシャル評価
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射频溅射法制备BaSi2薄膜表面晶界电位评价
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
末益 崇
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Yamashita;Y. Yamada;K. Hashimoto;T. Sasaki;H. Okuzaki;C. Otani;末益 崇
