CO2レーザーアニールによる多結晶シリコン薄膜の形成
CO2レーザーアニールによる多結晶シリコン薄膜の形成
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CO2激光退火形成多晶硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山崎浩司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中嶋誠二,辻田陽介,瀬戸翔太;藤沢浩訓,小舟正文,清水勝,朴正敏,金島岳,奥山雅則;山崎浩司;西永慈郎;中嶋 誠二;Seiji Nakashima;西永慈郎;山崎浩司
