消光プロセスを利用した長残光蛍光体設計
消光プロセスを利用した長残光蛍光体設計
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采用淬火工艺的长余辉荧光粉设计
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
上田 純平
中科院分区：
文献类型：
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作者：
樽谷 直紀;坂田 拓也;片桐 清文;Aaron Morelos Gomez;上田 純平
