榊, 武山, 野矢: "Cu/SiO_2間に介在させたTa-W合金膜のバリヤ特性"電子情報通信学会技術研究報告. CPM2000-84. 1-6 (2000)
榊, 武山, 野矢: "Cu/SiO_2間に介在させたTa-W合金膜のバリヤ特性"電子情報通信学会技術研究報告. CPM2000-84. 1-6 (2000)
复制标题
Sakaki、Takeyama、Noya：“Cu/SiO_2间插入的Ta-W合金薄膜的阻挡性能” IEICE技术研究报告CPM2000-84（2000）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
