Hisao Kondo: "Roles of H radicals in low temperature growth of poly-Si by SiF_4/SiH_4/H_2 plasma CVD" Proceedings of the 12th Symposium on Plasma Processing. 12. 457-460 (1994)
Hisao Kondo: "Roles of H radicals in low temperature growth of poly-Si by SiF_4/SiH_4/H_2 plasma CVD" Proceedings of the 12th Symposium on Plasma Processing. 12. 457-460 (1994)
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Hisao Kondo：“H自由基在SiF_4/SiH_4/H_2等离子体CVD低温生长多晶硅中的作用”第12届等离子体加工研讨会论文集。
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