S.Ootomo, T.Hashizume and H.Hasegawa: "Nitridation of GaP (100) Surfaces by rf Nitrogen Radicals and by Electron Cyclotron Resonance Nitrogen Plasma"Jpn.J.Appl.Phys.. 39. 2407-2413 (2000)
S.Ootomo, T.Hashizume and H.Hasegawa: "Nitridation of GaP (100) Surfaces by rf Nitrogen Radicals and by Electron Cyclotron Resonance Nitrogen Plasma"Jpn.J.Appl.Phys.. 39. 2407-2413 (2000)
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S.Ootomo、T.Hashizume 和 H.Hasekawa：“通过射频氮自由基和电子回旋共振氮等离子体对 GaP (100) 表面进行氮化”Jpn.J.Appl.Phys.. 39. 2407-2413 (2000)
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