Study of Epitaxial La2O3 High-k/Ge(111) Interface by X-ray Photoelectron Spectroscopy
Study of Epitaxial La2O3 High-k/Ge(111) Interface by X-ray Photoelectron Spectroscopy
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X射线光电子能谱研究外延La2O3 High-k/Ge(111)界面
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kohei Hamaya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takeshi Kanashima;Hiroshi Nohira;Masato Zenitaka;Taro Kobayashi;Riku Yamashiro;Shinya Yamada;Kohei Hamaya
