戸谷正太郎, 中嶋真滋, 三上明義: "Si基板上に形成した有機EL素子におけるポーラスSiバッファ層の効果"電子情報通信学会電子ディスプレイ研究会技術研究報告. EID-67. 17-20 (2002)
戸谷正太郎, 中嶋真滋, 三上明義: "Si基板上に形成した有機EL素子におけるポーラスSiバッファ層の効果"電子情報通信学会電子ディスプレイ研究会技術研究報告. EID-67. 17-20 (2002)
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Shotaro Toya、Masashi Nakajima、Akiyoshi Mikami：“在 Si 基板上形成的有机 EL 器件中多孔 Si 缓冲层的影响”，电子、信息和通信工程师研究所电子显示研究组的技术报告，EID-67。 2002）
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