Effects of Exposure on Bending Properties in Micro-sized Photo-resist for MEMS
Effects of Exposure on Bending Properties in Micro-sized Photo-resist for MEMS
复制标题
曝光对 MEMS 微型光刻胶弯曲性能的影响
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yakichi HIGO
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Chiemi ISHIYAMA;Junpei MATSUZAKI;Masato SONE;Yakichi HIGO
