Stoichiometric SiO2 thin films deposited by reactive sputtering
Stoichiometric SiO2 thin films deposited by reactive sputtering
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通过反应溅射沉积化学计量的 SiO2 薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Milosavljević
中科院分区：
文献类型：
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作者：
I. Radović;Y. Serruys;Yves Limoge;N. Bibić;S. Poissonnet;Olivier Jaoul;M. Mitrić;N. Romčević;M. Milosavljević
