Kumayasu Yoshii: "Crystallization Behavior of Amorphous Si_<1-x>C_x Films Prepared by R. F. Sputtering." Thin Solid Films. 199. (1991)
Kumayasu Yoshii: "Crystallization Behavior of Amorphous Si_<1-x>C_x Films Prepared by R. F. Sputtering." Thin Solid Films. 199. (1991)
复制标题
Kumayasu Yoshii：“射频溅射制备的非晶 Si_<1-x>C_x 薄膜的结晶行为。”
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
