希釈ガスに水素ガスを用いたプラズマ化学気相成長法によるSi/N共添加ダイヤモンドライクカーボンの膜特性
希釈ガスに水素ガスを用いたプラズマ化学気相成長法によるSi/N共添加ダイヤモンドライクカーボンの膜特性
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氢气作为稀释气体等离子化学气相沉积Si/N共掺杂类金刚石碳薄膜特性
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中澤日出樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中村和樹;大橋遼;横山大;田島圭一郎;遠藤則史;末光眞希;遠田義晴;中澤日出樹
