Condensation Behavior of nanoscale bubbles on ArF excimer resist surface analyzed by atomic force microscope

Condensation Behavior of nanoscale bubbles on ArF excimer resist surface analyzed by atomic force microscope
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原子力显微镜分析ArF准分子光刻胶表面纳米级气泡的凝聚行为

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
J. Photopolymer Sci. Technol 18(3)
影响因子:
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通讯作者:
Akira Kawai
Akira Kawai
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Akira Kawai;Kenta Suzuki;Akira Kawai

文献摘要

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