T.Yao, S.Shinabe and M.Yoshimura: "Atomistic Study of the Formation Process of Ni Silicide on the Si (111)-7*7 Surface with Scanning Tnneling Microscopy" Applied Surface science. 104/105. 213-217 (1996)
T.Yao, S.Shinabe and M.Yoshimura: "Atomistic Study of the Formation Process of Ni Silicide on the Si (111)-7*7 Surface with Scanning Tnneling Microscopy" Applied Surface science. 104/105. 213-217 (1996)
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T.Yao、S.Shinabe 和 M.Yoshimura：“利用扫描隧道显微镜对 Si (111)-7*7 表面上镍硅化物的形成过程进行原子研究”应用表面科学。
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