M.Tonouchi, F.Moriyama and T.Miyasato: "Characterization of uc-Si:H Films Prepared by H_2 Sputtering." Jpn.J.Appl.Phys.29(1990)L385.
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M.Tonouchi、F.Moriyama 和 T.Miyasato：“H_2 溅射制备的 uc-Si:H 薄膜的表征。”
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