R.Nozawa et.al.: "In situ Obserbation of Hydrogenated Amorphous Silicon Surface during Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma Annealing Using Polarization Modulation Infrared Reflection Absorption Spectroscopy" Proc.of 44rd National Symposium of Ame
R.Nozawa et.al.: "In situ Obserbation of Hydrogenated Amorphous Silicon Surface during Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma Annealing Using Polarization Modulation Infrared Reflection Absorption Spectroscopy" Proc.of 44rd National Symposium of Ame
复制标题
R.Nozawa 等：“使用偏振调制红外反射吸收光谱法在电子回旋共振氢等离子体退火过程中对氢化非晶硅表面进行原位观察”第 44 届美国全国研讨会论文集
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
