光励起を利用したスタニルジラジカル種の発生と新規スタニル化反応への展開
光励起を利用したスタニルジラジカル種の発生と新規スタニル化反応への展開
复制标题
利用光激发生成甲锡烷基双自由基物种并开发新的甲锡烷基化反应
DOI：
--
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
内山 真伸
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
坂本 京花;内山 真伸
