TRANSIENT-BEHAVIOR AT PLANAR MICROELECTRODES - A COMPARISON OF DIFFUSION CURRENT AT RING, BAND AND DISK ELECTRODES
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DOI：
10.1016/0022-0728(90)87111-v
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发表时间：
1990-06-11
影响因子：
4.5
通讯作者：
TALLMAN, DE
中科院分区：
文献类型：
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作者：
COPE, DK;TALLMAN, DE
