GROWTH AND CHARACTERIZATION OF SI1-XGEX AND GE EPILAYERS ON (100) SI
GROWTH AND CHARACTERIZATION OF SI1-XGEX AND GE EPILAYERS ON (100) SI
复制标题
DOI：
10.1063/1.340312
复制
发表时间：
1988-06-15
影响因子：
3.2
通讯作者：
DENHOFF, MW
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
BARIBEAU, JM;JACKMAN, TE;DENHOFF, MW
