S-ニトロシル化修飾によるG3BP1のストレス顆粒形成・クリアランスの変化
S-ニトロシル化修飾によるG3BP1のストレス顆粒形成・クリアランスの変化
复制标题
S-亚硝基化修饰导致 G3BP1 应激颗粒形成和清除的变化
DOI：
--
复制
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
伊藤 和，藤河 香奈，高杉 展正，上原 孝
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kayamori Kensuke;Nagai Yurie;Zhong Cheng;Kuribayashi Wakako;Oshima Motohiko;Nakajima-Takagi Yaeko;Yamashita Masayuki;Mimura Naoya;Becker Hans Jiro;Izawa Kiyoko;Yamazaki Satoshi;Iwano Satoshi;Ito Ryoji;Lennox William;Sheedy Josephine;Yokote Koutaro;Iwama A;Hideo Bannai;伊藤 和，藤河 香奈，高杉 展正，上原 孝
