Sub-5keV electron-beam lithography in hydrogen silsesquioxane resist
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氢倍半硅氧烷抗蚀剂中的亚 5keV 电子束光刻
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Berggren
中科院分区：
文献类型：
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作者：
V. Manfrinato;L. Cheong;H. Duan;D. Winston;Henry I. Smith;K. Berggren
