Cu-CMP assisted with Ultra Violet light irradiation directly to wafersurface
Cu-CMP assisted with Ultra Violet light irradiation directly to wafersurface
复制标题
Cu-CMP 辅助紫外线直接照射到晶圆表面
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Nobutaka Sumomogi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Panart Khajornrungruang;Keiichi Kimura;Nobutaka Sumomogi
