電子ビーム蒸着法で作製したMgB_2/Ni積層薄膜の臨界電流密度特性
電子ビーム蒸着法で作製したMgB_2/Ni積層薄膜の臨界電流密度特性
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电子束蒸发法制备MgB_2/Ni多层薄膜的临界电流密度特性
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
藤吉 孝則
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Haruta;T.Fujiyoshi et al.;神川 隆博;藤吉 孝則
