Cubic boron nitride films for industrial applications
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DOI：
10.1016/j.diamond.2005.09.003
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发表时间：
2005-11
影响因子：
4.1
通讯作者：
I. Bello;Y. M. Chong;K. Leung;C. Chan;K. Ma;Wenjun Zhang;Shui-Tong Lee;A. Layyous
中科院分区：
文献类型：
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作者：
I. Bello;Y. M. Chong;K. Leung;C. Chan;K. Ma;Wenjun Zhang;Shui-Tong Lee;A. Layyous
