Siウエハ薄化プロセスに向けた高密度水素プラズマエッチング技術の開発
Siウエハ薄化プロセスに向けた高密度水素プラズマエッチング技術の開発
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硅片减薄工艺高密度氢等离子体刻蚀技术的开发
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
木元健太，武居則久，垣内弘章，安武潔，大参宏昌
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shinya Sakata;Takashi Kadota;Yuki Yamada;Kenichi Nakanishi;Hayato Yoshioka;Norikazu Suzuki; Yasuhiro Kakinuma;Tien-Dat Hoang and Naoki Takano;木元健太，武居則久，垣内弘章，安武潔，大参宏昌
