Development of environmentally-friendly photoresist removal process using microwave excited bubble plasma in Water
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开发利用水中微波激发气泡等离子体的环保光刻胶去除工艺
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Uesugi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Ishijima;H. Horibe;Y. Tanaka;Y. Uesugi
