Vapour deposited boron nitride thin films
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DOI：
10.1016/0261-3069(92)90026-e
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发表时间：
1992
影响因子：
8.4
通讯作者：
M. Karim;D. Cameron;M. Hashmi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Karim;D. Cameron;M. Hashmi
