Study of Amorphous Carbon Nitride deposited by RF sputtering
Study of Amorphous Carbon Nitride deposited by RF sputtering
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射频溅射沉积非晶氮化碳的研究
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tadashi Kozuno
中科院分区：
文献类型：
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作者：
鈴木涼;他;Tadashi Kozuno
