Plasma etching of high-κ and metal gate materials
Plasma etching of high-κ and metal gate materials
复制标题
高κ和金属栅极材料的等离子蚀刻
DOI：
--
复制
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K.Ono
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K.Nakamura;T.Kitagawa;K.Osari;K.Takahashi;K.Ono
