Development of a vertical wafer stage for high-vacuum applications
Development of a vertical wafer stage for high-vacuum applications
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开发用于高真空应用的垂直晶圆台
DOI：
10.1016/s0167-9317(01)00517-2
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发表时间：
2001
影响因子：
2.3
通讯作者：
E. Saffert
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E. Beckert;Andrew Hoffmann;E. Saffert
