Pr-Silicate Ultrathin Films for High-k Gate Dielectric Prepared by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
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金属有机化学气相沉积法制备高k栅介质用硅酸镨超薄膜
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yoshishige Tsuchiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Yamazato;et al.;鄭 仰東;Hirotsugu Fujita;Yoshishige Tsuchiya
