CVD OF SILICA FILM FROM HEXAMETHYLDISILOXANE AND OXYGEN
CVD OF SILICA FILM FROM HEXAMETHYLDISILOXANE AND OXYGEN
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用六甲基二硅氧烷和氧气 CVD 制备二氧化硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Motoaki Kawase
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Erika Takeda;Ryo Takahashi;Sho Nagaya;Motoaki Kawase
