Toshiro Maruyama: "FluorineーDoped Tin Dioxide Thin Films Prepared by Chemical Vapor Deposition" Journal of Applied Physics. 67. 4282-4285 (1990)
Toshiro Maruyama: "FluorineーDoped Tin Dioxide Thin Films Prepared by Chemical Vapor Deposition" Journal of Applied Physics. 67. 4282-4285 (1990)
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Toshiro Maruyama：“化学气相沉积制备的氟掺杂二氧化锡薄膜”应用物理学杂志 67. 4282-4285 (1990)。
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