Negative Epoxy Resist for Permanent Use Optimized for Proton Beam Writing
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针对质子束写入而优化的永久使用负性环氧树脂光刻胶
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Takemori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Nishikawa;T. Nishiura;T. Mita;T. Takemori
