Chemical shifts of Si-H stretching frequencies at Si(100) surfaces pre-exposed to oxygen in the submonolayer range
Chemical shifts of Si-H stretching frequencies at Si(100) surfaces pre-exposed to oxygen in the submonolayer range
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预暴露于亚单层范围内氧气的 Si(100) 表面的 Si-H 伸缩频率的化学位移
DOI：
10.1016/0039-6028(84)90050-5
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发表时间：
1984
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
G. Lapeyre
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Schaefer;D. Frankel;F. Stucki;W. Göpel;G. Lapeyre
