Structural and Electrical Properties of Al2O3 Film Grown by Mist Chemical Vapour Deposition
Structural and Electrical Properties of Al2O3 Film Grown by Mist Chemical Vapour Deposition
复制标题
雾化化学气相沉积 Al2O3 薄膜的结构和电学性能
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mamoru Furuta
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Toshiyuki Kawaharamura;Dapeng Wang;Tetsuya Toda;Chaoyang Li;Mamoru Furuta
