Synthesis of AlOx thin films by mist-CVD and its application to dielectric layer for MOS-FET
Synthesis of AlOx thin films by mist-CVD and its application to dielectric layer for MOS-FET
复制标题
雾气CVD法合成AlOx薄膜及其在MOS-FET介质层中的应用
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and H. Shirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Rajib;T. Shida;A. Kuddus;K. Ueno;and H. Shirai
