K.Murakami,Y.Wakabayashi.K.Minami,M.Esashi: "Cryogenic Dry Etching for High Aspect Ratio Microstructures" Proc.of IEEE Micro Electro Mechanical Systems.(Florida. USA). 65-70 (1993)
K.Murakami,Y.Wakabayashi.K.Minami,M.Esashi: "Cryogenic Dry Etching for High Aspect Ratio Microstructures" Proc.of IEEE Micro Electro Mechanical Systems.(Florida. USA). 65-70 (1993)
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K.Murakami,Y.Wakabayashi.K.Minami,M.Esashi：“高深宽比微结构的低温干法蚀刻”Proc.of IEEE Micro Electro Mechanical Systems。（佛罗里达州，美国）。
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