Low Temperature Deposition of Silicon Films Using Very High-Frequency Plasma under Atmospheric Pressure
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大气压下使用甚高频等离子体低温沉积硅膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K. Yasutake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Tamaki;T. Sakaguchi;W. Lin;T. Yamada;H. Ohmi;H. Kakiuchi;and K. Yasutake
