C.H.Shon, T.Makabe: "Pulsed two-frequency capacitively coupled plasma simulation with H_2/N_2 mixtures for the etching of low-k materials"Bulletin of the American Physical Society. 47.7. 31 (2002)
C.H.Shon, T.Makabe: "Pulsed two-frequency capacitively coupled plasma simulation with H_2/N_2 mixtures for the etching of low-k materials"Bulletin of the American Physical Society. 47.7. 31 (2002)
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C.H.Shon，T.Makabe：“用 H_2/N_2 混合物进行脉冲双频电容耦合等离子体模拟，用于低 k 材料的蚀刻”美国物理学会通报。
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