A.Suzuki Y.Toyoshima P.J.McElheny A.Matsuda: "In-situ ultravioletlaser treatment during plasma deposition for the improvement of film qualities in hydrogenated amorphous silicon" Jpn.J.Appl.Phys. 30. L790-L792 (1991)
A.Suzuki Y.Toyoshima P.J.McElheny A.Matsuda: "In-situ ultravioletlaser treatment during plasma deposition for the improvement of film qualities in hydrogenated amorphous silicon" Jpn.J.Appl.Phys. 30. L790-L792 (1991)
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A.Suzuki Y.Toyoshima P.J.McElheny A.Matsuda：“等离子体沉积过程中的原位紫外激光处理可提高氢化非晶硅的薄膜质量” Jpn.J.Appl.Phys。
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